A.甲基質(zhì)子是單峰，次甲基質(zhì)子是七重峰，醇質(zhì)子是單峰
B.甲基質(zhì)子是二重峰，次甲基質(zhì)子是七重峰，醇質(zhì)子是單峰
C.甲基質(zhì)子是四重峰，次甲基質(zhì)子是十四重峰，醇質(zhì)子是單峰
D.甲基質(zhì)子是四重峰，次甲基質(zhì)子是十四重峰，醇質(zhì)子是二重峰
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A.大，因?yàn)榇诺母飨虍愋孕?yīng)，使乙烯質(zhì)子處在屏蔽區(qū)，乙炔質(zhì)子處在去屏蔽區(qū)
B.大，因?yàn)榇诺母飨虍愋孕?yīng)，使乙烯質(zhì)子處在去屏蔽區(qū)，乙炔質(zhì)子處在屏蔽區(qū)
C.小，因?yàn)榇诺母飨虍愋孕?yīng)，使乙烯質(zhì)子處在去屏蔽區(qū)，乙炔質(zhì)子處在屏蔽區(qū)
D.小，因?yàn)榇诺母飨虍愋孕?yīng)，使乙烯質(zhì)子處在屏蔽區(qū)，乙炔質(zhì)子處在去屏蔽區(qū)
A.掃場(chǎng)下的高場(chǎng)和掃頻下的高頻，較小的化學(xué)位移值（δ）
B.掃場(chǎng)下的高場(chǎng)和掃頻下的低頻，較小的化學(xué)位移值（δ）
C.掃場(chǎng)下的低場(chǎng)和掃頻下的高頻，較大的化學(xué)位移值（δ）
D.掃場(chǎng)下的低場(chǎng)和掃頻下的低頻，較大的化學(xué)位移值（δ）
A.屏蔽效應(yīng)增強(qiáng)，化學(xué)位移值大，峰在高場(chǎng)出現(xiàn)
B.屏蔽效應(yīng)減弱，化學(xué)位移值大，峰在高場(chǎng)出現(xiàn)
C.屏蔽效應(yīng)增強(qiáng)，化學(xué)位移值小，峰在高場(chǎng)出現(xiàn)
D.屏蔽效應(yīng)增強(qiáng)，化學(xué)位移值大，峰在低場(chǎng)出現(xiàn)
A.不同質(zhì)子種類數(shù)
B.同類質(zhì)子個(gè)數(shù)
C.化合物中雙鍵的個(gè)數(shù)與位置
D.相鄰碳原子上質(zhì)子的個(gè)數(shù)
A.（CH3）2CHCOCH3
B.（CH3）3-c-CHO
C.CH3CH2CH2COCH3
D.CH3CH2COCH2CH3
最新試題
下面乙酸乙酯的氫譜圖（600MHz），耦合常數(shù)計(jì)算正確的是（）。
在化合物C6H5OCH3的氫譜中，甲基質(zhì)子化學(xué)位移為（）。
下面表示酯分子的特征吸收峰的是（）。
推測(cè)下面化合物Ha的化學(xué)位移值范圍是（）。
測(cè)定核磁共振氫譜需要使用氘代溶劑溶解化合物，這是因?yàn)椋ǎ?/p>
對(duì)自旋核體系的弛豫過程，描述正確的是（）。
下面的哪一個(gè)選項(xiàng)的兩個(gè)化合物中，Ha和Hb都是磁不等價(jià)的？（）
核磁譜圖橫坐標(biāo)一般為（）。
醛基質(zhì)子化學(xué)位移（δ9-10）出現(xiàn)在很低場(chǎng)的原因包括（）。
醛和酰氯分子中，羰基伸縮振動(dòng)波數(shù)分別為~1725cm-1和1800cm-1，合理的解釋為（）。