判斷題LPCVD系統(tǒng)中淀積速率是受表面反應(yīng)控制的,APCVD系統(tǒng)中淀積速率受質(zhì)量輸運(yùn)控制。
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把半導(dǎo)體級(jí)硅的多晶硅塊,轉(zhuǎn)換成一塊大的單晶硅的過(guò)程,稱作()。生長(zhǎng)后的單晶硅被稱為()。
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集成電容主要有幾種結(jié)構(gòu)?
題型:?jiǎn)柎痤}
20世紀(jì)上半葉對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)量展做出貢獻(xiàn)的4種不同產(chǎn)業(yè)主要是()。
題型:多項(xiàng)選擇題
說(shuō)明MOS器件噪聲的來(lái)源、成因及減小方法。
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目前集成電路版圖設(shè)計(jì)的主流工具有哪些?
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MOS器件存在哪些二階效應(yīng)?
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試用電導(dǎo)率為102/(Ω·cm),厚1μm的材料設(shè)計(jì)1kΩ的電阻,設(shè)電阻寬1μm,求其長(zhǎng)。
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版圖DRC、ERC和LVS的意義是什么?
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在圖中,若所有的晶體管都工作在飽和區(qū),求M4的漏電流。
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MOS器件按比例縮小后對(duì)器件特性有什么影響?
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