氯乙烯裝置直接氯化單元產(chǎn)品中高沸含量上升，主要原因是（）

泡罩塔塔盤在安裝時，應注意（）

EDC裂解爐進料低沸含量高，對裂解爐影響是（）

氧氯化單元產(chǎn)品EDC純度下降，應檢查（）

直接氯化反應器水煮時，下面注意事項正確的是（）

在VCM裝置中焚燒爐超溫，危害有（）

氧氣在線分析儀出現(xiàn)故障時，從工藝方面，應檢查（）

VCM裝置中，氧氯化反應器HCl選擇性越高，則（）

EDC在線水分析儀出現(xiàn)故障時，從工藝方面，應檢查（）

VCM裝置中，直接氯化反應器可通過以下（）方法提高EDC的選擇性。