氧氯化法生產(chǎn)VCM單體時(shí)，含乙炔超標(biāo)，主要原因是（）

在VCM裝置中，EDC裂解爐在燒焦時(shí)超溫的危害性有（）

EDC裂解汽化器在裂解爐清完焦后壓力難以控制，主要原因是（）

氧氯化反應(yīng)器換熱蛇管泄漏，可能的原因是（）

氯乙烯裝置直接氯化單元產(chǎn)品中高沸含量上升，主要原因是（）

氯乙烯裝置安全閥在打完壓后，安裝時(shí)應(yīng)注意（）

VCM裝置中外排廢水COD超標(biāo)，處理措施正確的是（）

氧氯化反應(yīng)急冷塔塔底排水量突然增多，原因可能是（）

液環(huán)式壓縮機(jī)軸承發(fā)熱，主要原因是（）

在VCM裝置中焚燒爐超溫，危害有（）