問答題

【簡答題】CVD法的過程和細(xì)節(jié)分別是什么？

答案： （1）反應(yīng)氣體向基片表面擴(kuò)散：
（2）反應(yīng)氣體吸附于基片的表面，
（3）在基片表面上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)；<...
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問答題

【簡答題】真空蒸鍍的形狀和必備條件是什么？
答案： ①為了能獲得足夠的蒸鍍速度，要求蒸發(fā)源能加熱到材料的平衡蒸氣壓在1.33×10-2-1.33Pa的...
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【簡答題】分子外延術(shù)的優(yōu)點(diǎn)是什么？
答案： （1）可以把要求高真空條件工作的分析裝置結(jié)合到外延生長系統(tǒng)中去。
（2）它的生長速率可以調(diào)節(jié)得很慢，使得外延層...
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