A、鈷60 B、伽瑪射線 C、300KV以上X光機(jī) D、300KV以下X光機(jī)
A、X光焦點(diǎn)尺寸 B、底片透光度 C、缺陷大小 D、以上都對(duì)
A、增加射源至物件的距離 B、增加增感屏厚度 C、減少曝光時(shí)間 D、增加曝光時(shí)間