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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述光刻工藝的8個(gè)基本步驟。
答案:
①氣相成底膜;
②旋轉(zhuǎn)涂膠;
③軟烘;
④對(duì)準(zhǔn)和曝光;
⑤曝光后烘培(PEB);
⑥顯影;
⑦堅(jiān)膜烘培;
⑧顯影檢查。
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述部分離子注入工藝的作用。
答案:
①深埋層注入:高能(大于200KEV)離子注入,深埋層的作用:減小襯底橫向寄生電阻,控制CMOS的閂鎖效應(yīng)。
...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述在先進(jìn)的CMOS工藝中,離子注入的應(yīng)用。
答案:
①深埋層注入;
②倒摻雜阱注入;
③穿通阻擋層注入;
④閾值電壓調(diào)整注入;
⑤輕...
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