碳四裝置回流罐頂去低壓調(diào)節(jié)閥是（）

碳四裝置催化劑再生前需要對待再生反應(yīng)系統(tǒng)做（）

“水擊”消除方法根本指導(dǎo)思想是（）

碳四裂解裝置加熱反應(yīng)系統(tǒng)結(jié)焦危害是（）

氣分裝置脫乙烷塔塔頂溫高，是由于（）引起。

進(jìn)萃取裝置原料中異丁烷含量過高有利于提高（）

對于氣體分餾裝置，在塔底溫度穩(wěn)定的情況下，一般塔頂壓力的控制方法是采用調(diào)節(jié)冷卻器的（）溫度和調(diào)節(jié)回流量的方法來調(diào)節(jié)塔頂?shù)膲毫Α?/p>

液化氣引進(jìn)塔后，趕氮?dú)饨Y(jié)束，塔底通熱源以后，會發(fā)生塔底液面急速下降，此時(shí)這些液態(tài)烴原料到（）去了。

引起脫異丁烷塔底溫高的原因，以下正確的是（）

氣體分餾裝置處理量頻繁變化時(shí)，實(shí)際是氣體分餾裝置的（）頻繁被打破。