JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：當(dāng)辯認(rèn)細(xì)小缺陷磁痕時(shí)應(yīng)用2～10倍放大鏡進(jìn)行觀察。

一般說(shuō)來(lái)，進(jìn)行了周向磁化工件的退磁，應(yīng)先進(jìn)行一次縱向磁化。

磁懸液應(yīng)采用軟管沖淋或浸漬法施加于工件表面。

磁粉檢測(cè)，所有的磁痕尺寸、數(shù)量和產(chǎn)生部位均應(yīng)記錄并圖示。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：直流退磁法是將需退磁工件放入直流磁場(chǎng)中，逐漸減小電流至零。

退磁就是消除材料磁化后的剩余磁場(chǎng)使其達(dá)到無(wú)磁狀態(tài)的過(guò)程。

濕法用磁粉粒度一般比干法小。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：磁粉檢測(cè)時(shí)一般應(yīng)選用A1-60/100型標(biāo)準(zhǔn)試片。

在黑光燈下檢查熒光磁懸液的載液發(fā)出明顯的熒光，即可判定磁懸液污染。

干磁粉可采用手動(dòng)或電動(dòng)噴粉器以及其他合適的工具來(lái)施加，施加時(shí)磁粉應(yīng)厚些撒在工件表面上。