造成相同的x射線機(jī)曝光曲線不完全相同的原因是什么？

簡(jiǎn)述滲透探傷方法的選擇原則。

對(duì)某非磁性材料進(jìn)行渦流檢測(cè)時(shí)，已知μr=1，f=2kHz，ρ=2O×1O-6Ω·m，試計(jì)算滲透深度值為多少？

試驗(yàn)線圈激勵(lì)電流應(yīng)保持恒定，這樣用渦流系統(tǒng)得到的試件信息（）。

圖所示的標(biāo)準(zhǔn)試件可用來(lái)測(cè)定（）。

新置的Ir192γ射線源，其活度為40Ci，現(xiàn)今時(shí)隔300天，已知，Ir192γ射線源的半衰期為75天。求該源現(xiàn)在的活度？該源新置時(shí)，對(duì)某工件進(jìn)行射線照相的曝光時(shí)間為4min，若所有條件不變，現(xiàn)今應(yīng)曝光多少分鐘？

JB4730-94標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定不允許存在的缺陷有哪些？

頻率比在什么條件下，表面下裂紋的信號(hào)振幅增大（）。

試驗(yàn)線圈的感抗可用×L=2πfL公式計(jì)算，阻抗可用Z=√Xl2+R2公式計(jì)算。

有一個(gè)變量對(duì)渦流和磁場(chǎng)狀態(tài)的變化發(fā)生影響，線圈的輸出信號(hào)實(shí)際上是由這個(gè)變量產(chǎn)生的。這個(gè)變量是（）。