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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】加氫裝置苛刻度提高后對(duì)裝置的影響?
答案:
①對(duì)于催化劑,提高反應(yīng)溫度、降低空速,將導(dǎo)致催化劑快速結(jié)焦,催化劑活性下降,壓降上升,運(yùn)行周期縮短;提高氫油比和氫氣分壓...
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多項(xiàng)選擇題
對(duì)催化劑真正形成活性中心中毒的金屬是()。
A、鐵、鎂、鈣、鈉
B、鎳、釩、銅、鉛、等重金屬
C、砷
D、硅
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單項(xiàng)選擇題
硅主要是由()裝置中加注消泡劑引起的。少量硅沉積在催化劑孔口,導(dǎo)致活性下降,床層壓降上升。
A、常減壓
B、催化
C、重整
D、焦化
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