單項選擇題

真空鍍膜時真空度范圍應(yīng)在（）。

A、低真空
B、中真空
C、高真空
D、超高真空

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多項選擇題

對鍍膜材料進行預(yù)熔的目的是（）。

A、去除材料內(nèi)部的雜質(zhì)
B、改變材料的表面形狀
C、減少材料的放氣
D、提高材料的溫度

單項選擇題

為使蒸發(fā)材料分子從蒸發(fā)源到達基板時基本不和殘余氣體分子發(fā)生碰撞，故真空室內(nèi)真空度要到達10-3Pa以下，以滿足（）條件

A、氣體分子平均自由程小于蒸發(fā)距離.
B、氣體分子平均自由程遠大于蒸發(fā)距離
C、氣體分子平均自由程等于蒸發(fā)距離。
D、氣體分子平均自由程的平方大于蒸發(fā)距離。