氣中的一個小塵埃將影響整個芯片的（）性、（）率，并影響其電學性能和（）性，所以半導體芯片制造工藝需在超凈廠房內(nèi)進行。

簡述在芯片制造中對金屬電極材料有什么要求？

簡述你所在工藝的工藝質(zhì)量要求？你如何檢查你的工藝質(zhì)量？

雙極晶體管的高頻參數(shù)是（）。

非接觸式厚膜電路絲網(wǎng)印刷時，絲網(wǎng)與基片之間有一定的距離，稱為間隙，通常為（）。

反應離子腐蝕是（）。

延生長方法比較多，其中主要的有（）外延、（）外延、金屬有機化學氣相外延、（）外延、原子束外延、固相外延等。

典型的GaAsMESFET結(jié)構IC的工藝流程？

有哪幾種常用的化學氣相淀積薄膜的方法？

雙極晶體管的1c7r噪聲與（）有關。