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A.擴(kuò)散層質(zhì)量
B.設(shè)計(jì)
C.光刻
A.掩膜版
B.擴(kuò)散
C.光刻
A.化學(xué)刻蝕機(jī)理
B.物理刻蝕機(jī)理
C.物理的濺射刻蝕和化學(xué)的反應(yīng)刻蝕相結(jié)合
A.高斯
B.余誤差
C.指數(shù)
A.熱塑性樹(shù)脂
B.熱固性或橡膠型膠粘劑
最新試題
典型的GaAsMESFET結(jié)構(gòu)IC的工藝流程?
平行縫焊的工藝參數(shù)有焊接電流、焊接速度、焊輪壓力和焊輪椎頂角。焊輪壓力影響蓋板和焊環(huán)之間高阻點(diǎn)的()。壓力太大,電阻值下降,對(duì)形成焊點(diǎn)不利,焊輪壓力太小,則造成接觸不良,不但形不成良好點(diǎn)。
簡(jiǎn)述你所在工藝的工藝質(zhì)量要求?你如何檢查你的工藝質(zhì)量?
引線焊接有哪些質(zhì)量要求?
器件的橫向尺寸控制幾乎全由()來(lái)實(shí)現(xiàn)。
金屬封裝主要采用金屬和玻璃密封工藝,金屬作封裝底盤(pán)、管帽和引線,()做絕緣和密封。
濺射法是由()轟擊靶材表面,使靶原子從靶表面飛濺出來(lái)淀積在襯底上形成薄膜。
常用膠粘劑有熱固性樹(shù)脂、熱塑性樹(shù)脂和橡膠型膠粘劑3大類。半導(dǎo)體器件的粘封工藝一般選用()。
恒定表面源擴(kuò)散的雜質(zhì)分布在數(shù)學(xué)上稱為()分布。
禁帶寬度的大小決定著電子從價(jià)帶跳到導(dǎo)帶的難易,一般半導(dǎo)體材料的禁帶寬度越寬,所制作的半導(dǎo)體器件中的載流子()外界因素(如高溫和輻射等)的干擾而產(chǎn)生變化。