問(wèn)答題什么叫晶體缺陷?

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2.單項(xiàng)選擇題器件的橫向尺寸控制幾乎全由()來(lái)實(shí)現(xiàn)。

A.掩膜版
B.擴(kuò)散
C.光刻

3.單項(xiàng)選擇題反應(yīng)離子腐蝕是()。

A.化學(xué)刻蝕機(jī)理
B.物理刻蝕機(jī)理
C.物理的濺射刻蝕和化學(xué)的反應(yīng)刻蝕相結(jié)合

4.單項(xiàng)選擇題恒定表面源擴(kuò)散的雜質(zhì)分布在數(shù)學(xué)上稱為()分布。

A.高斯
B.余誤差
C.指數(shù)

最新試題

典型的GaAsMESFET結(jié)構(gòu)IC的工藝流程?

題型:?jiǎn)柎痤}

平行縫焊的工藝參數(shù)有焊接電流、焊接速度、焊輪壓力和焊輪椎頂角。焊輪壓力影響蓋板和焊環(huán)之間高阻點(diǎn)的()。壓力太大,電阻值下降,對(duì)形成焊點(diǎn)不利,焊輪壓力太小,則造成接觸不良,不但形不成良好點(diǎn)。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

簡(jiǎn)述你所在工藝的工藝質(zhì)量要求?你如何檢查你的工藝質(zhì)量?

題型:?jiǎn)柎痤}

引線焊接有哪些質(zhì)量要求?

題型:?jiǎn)柎痤}

器件的橫向尺寸控制幾乎全由()來(lái)實(shí)現(xiàn)。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

金屬封裝主要采用金屬和玻璃密封工藝,金屬作封裝底盤(pán)、管帽和引線,()做絕緣和密封。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

濺射法是由()轟擊靶材表面,使靶原子從靶表面飛濺出來(lái)淀積在襯底上形成薄膜。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

常用膠粘劑有熱固性樹(shù)脂、熱塑性樹(shù)脂和橡膠型膠粘劑3大類。半導(dǎo)體器件的粘封工藝一般選用()。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

恒定表面源擴(kuò)散的雜質(zhì)分布在數(shù)學(xué)上稱為()分布。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題

禁帶寬度的大小決定著電子從價(jià)帶跳到導(dǎo)帶的難易,一般半導(dǎo)體材料的禁帶寬度越寬,所制作的半導(dǎo)體器件中的載流子()外界因素(如高溫和輻射等)的干擾而產(chǎn)生變化。

題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題