單項選擇題腐蝕二氧化硅的水溶液一般是用（）

A、鹽酸
B、硫酸
C、硝酸
D、氫氟酸


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1.單項選擇題說明構(gòu)成每個單元所需的基本門和基本單元的集成電路設計過程叫（）：

A、邏輯設計
B、物理設計
C、電路設計
D、系統(tǒng)設計

2.單項選擇題屬于絕緣體的正確答案是（）。

A.金屬、石墨、人體、大地
B.橡膠、塑料、玻璃、云母、陶瓷
C.硅、鍺、砷化鎵、磷化銦
D.各種酸、堿、鹽的水溶液

3.多項選擇題下列材料屬于N型半導體是（）。

A.硅中摻有元素雜質(zhì)磷（P）、砷（As）
B.硅中摻有元素雜質(zhì)硼B(yǎng).、鋁（Al）
C.砷化鎵摻有元素雜質(zhì)硅（Si）、碲（TE）
D.砷化鎵中摻元素雜質(zhì)鋅、鎘、鎂