A.位錯(cuò)就是由彈性形變?cè)斐傻?br />
B.位錯(cuò)就是由重力造成的
C.位錯(cuò)就是由范性形變?cè)斐傻?br />
D.以上答案都不對(duì)
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A、單基極條圖形
B、雙基極條圖形
C、基極和集電極引線(xiàn)孔都是馬蹄形結(jié)構(gòu)
D、梳狀結(jié)構(gòu)
A、鹽酸
B、硫酸
C、硝酸
D、氫氟酸
A、邏輯設(shè)計(jì)
B、物理設(shè)計(jì)
C、電路設(shè)計(jì)
D、系統(tǒng)設(shè)計(jì)
A.金屬、石墨、人體、大地
B.橡膠、塑料、玻璃、云母、陶瓷
C.硅、鍺、砷化鎵、磷化銦
D.各種酸、堿、鹽的水溶液
A.硅中摻有元素雜質(zhì)磷(P)、砷(As)
B.硅中摻有元素雜質(zhì)硼B(yǎng).、鋁(Al)
C.砷化鎵摻有元素雜質(zhì)硅(Si)、碲(TE)
D.砷化鎵中摻元素雜質(zhì)鋅、鎘、鎂
最新試題
場(chǎng)效應(yīng)晶體管的柵源電壓變化可以控制漏電流變化。()
敘述H2還原SiCl4外延的原理,寫(xiě)出化學(xué)方程式。
集成電容主要有哪幾種結(jié)構(gòu)?
門(mén)陣列的基本結(jié)構(gòu)形式有兩種:一種是晶體管陣列,一種是門(mén)陣列()
厚膜漿料存在觸變性,流體受到外力作用時(shí)黏度迅速下降,外力消失后,黏度迅速恢復(fù)原狀。()
干法腐蝕清潔、干凈、無(wú)脫膠現(xiàn)象、圖形精度和分辨率高。()
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硅MOSFET和硅JFET結(jié)構(gòu)相同。()
設(shè)備、試劑、氣瓶等所有物品不需經(jīng)嚴(yán)格清潔處理,可直接進(jìn)入凈化區(qū)。()
光刻工藝要求掩膜版圖形黑白區(qū)域之間的反差要低。()