單項(xiàng)選擇題光刻工藝是利用感光膠感光后抗腐蝕的特性在半導(dǎo)體晶片表面的掩膜層上的工藝()

A.刻制圖形
B.繪制圖形
C.制作圖形


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片狀源擴(kuò)散具有設(shè)備簡(jiǎn)單,操作方便,晶片缺陷少,均勻性、重復(fù)性和表面質(zhì)量都較好,適于批量生產(chǎn),應(yīng)用越來(lái)越普遍。()

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