給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

解釋掃描投影光刻機是怎樣工作的？掃描投影光刻機努力解決什么問題？

例舉并描出旋轉涂膠的4個基本步驟。

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質并說明它們是n型還是p型？

描述曝光波長和圖像分辨率之間的關系。

解釋什么是暗場掩模板？

描述RF濺射系統(tǒng)。

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。