刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

定義刻蝕速率并描述它的計(jì)算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？

解釋掃描投影光刻機(jī)是怎樣工作的？掃描投影光刻機(jī)努力解決什么問題？

例出光刻的8個(gè)步驟，并對每一步做出簡要解釋。

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個(gè)步驟。

例舉離子注入工藝和擴(kuò)散工藝相比的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)。

解釋什么是暗場掩模板？