在硅片制造中光刻膠的兩種目的是什么？

什么是阻擋層金屬？阻擋層材料的基本特征是什么？哪種金屬常被用作阻擋層金屬？

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質并說明它們是n型還是p型？

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

光學光刻中影響圖像質量的兩個重要參數(shù)是什么？

刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

描述RF濺射系統(tǒng)。

敘述氮化硅的濕法化學去除工藝。

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。