【論述題】在光刻中，能夠在增加分辨率的同時增加聚焦深度嗎？為什么？

答案：不能！聚焦深度：在保持圖形聚焦的前提下，沿著光路方向晶圓片移動的距離是聚焦深度——
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問答題
【論述題】根據(jù)曝光方式的不同，光學(xué)光刻機可以分成幾類？各有什么優(yōu)缺點？
答案：根據(jù)曝光方式不同光學(xué)光刻機主要分為三種：接觸式，接近式，投影式。接觸式：接觸式光刻機是最簡單的光刻機，曝光時，掩模壓在涂...
問答題
【論述題】在干法刻蝕的終點檢測方法中，光學(xué)放射頻譜分析法最常見，簡述其工作原理和優(yōu)缺點。
答案：光學(xué)放射頻譜分析是利用檢測等離子體中某種波長的光線強度變化來達到終點檢測的目的。光強的變化反映了等離子體中原子或分子濃度...