例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個(gè)基本步驟。

例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點(diǎn)。

例舉離子注入設(shè)備的5個(gè)主要子系統(tǒng)。

哪種化學(xué)氣體經(jīng)常用來刻蝕多晶硅？描述刻蝕多晶硅的三個(gè)步驟。

什么是摻雜？例舉四種常用的摻雜雜質(zhì)并說明它們是n型還是p型？

例舉并描述光刻中使用的兩種曝光光源。

例舉并解釋硅中固態(tài)雜質(zhì)擴(kuò)散的三個(gè)步驟。

什么是結(jié)深？

解釋離子束擴(kuò)展和空間電荷中和。

解釋什么是暗場掩模板？