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刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

解釋什么是暗場掩模板？

例出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

解釋光刻膠顯影。光刻膠顯影的目的是什么？

什么是硅化物？難熔金屬硅化物在硅片制造業(yè)中重要的原因是什么？

定義刻蝕速率并描述它的計算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？

描述電子回旋共振（ECR）。

什么是結(jié)深？

描述RF濺射系統(tǒng)。