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單項選擇題

用g線和i線進行曝光時通常使用哪種光刻膠（）。

A.ARC
B.HMDS
C.正膠
D.負膠

你可能感興趣的試題

單項選擇題

光刻的主要工藝流程按照操作順序是（）。

A.涂膠、前烘、曝光、堅膜、顯影、去膠
B.涂膠、前烘、堅膜、曝光、顯影、去膠
C.涂膠、前烘、曝光、顯影、堅膜、去膠
D.前烘、涂膠、曝光、堅膜、顯影、去膠

多項選擇題

超大規(guī)模集成電路需要光刻工藝具備的要求有（）。

A.高分辨率
B.高靈敏度
C.精密的套刻對準
D.大尺寸
E.低缺陷

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