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單項選擇題

光刻工藝中，脫水烘焙的最初溫度是（）。

A.150－200℃
B.200℃左右
C.250℃左右
D.300℃左右

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多項選擇題

在深紫外曝光中，需要使用CA光刻膠，它的優(yōu)點在于（）。

A.CA光刻膠對深紫外光吸收小
B.CA光刻膠將吸收的光子能量發(fā)生化學(xué)轉(zhuǎn)化
C.CA光刻膠在顯影液中的可溶性強(qiáng)
D.有較高的光敏度
E.有較高的對比度

單項選擇題

在深紫外曝光中，需要使用（）光刻膠。

A.DQN
B.CA
C.ARC
D.PMMA

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