管式轉化爐是以輕烴為原料，用蒸汽轉化法生產(chǎn)氫氣或合成氨原料的一種加熱爐。其輻射段是原料氣在轉化管內進行轉化的反應部分，管外由燃料供熱；對流段是高溫煙氣的余熱回收部分。

反應器內構件主要有哪些？

管式加熱爐一般由輻射室、對流室、余熱回收系統(tǒng)、燃燒及通風系統(tǒng)及煙囪六部分組成。

集散控制系統(tǒng)又稱分散控制系統(tǒng)，它是以微型計算機為基礎的，將顯示操作部分高度集中，而將控制部分分散的一種控制系統(tǒng)。

在30mL1mol/L氯化鈉溶液和40mL的0.5mol/L氯化鈣溶液混合后，混合溶液中-Cl離子的摩爾濃度為[溶液體積變化忽略不計]（）mol/L。

分散控制系統(tǒng)（DCS）一般由過程輸入/輸出接口單元、過程控制單元CRT操作站、高速數(shù)據(jù)通道四部分組成。

簡述變壓吸附的原理？

鍋爐系統(tǒng)生產(chǎn)時汽包出現(xiàn)虛假液位主要是由給水量與蒸汽量之間的物料平衡關系破壞所引起的。

加氫反應器主要分為有隔熱襯里的冷壁反應器和無隔熱襯里的熱壁反應器兩種，現(xiàn)在多數(shù)采用的是熱壁反應器。

鍋爐蒸汽并汽時的參數(shù)要求是鍋爐汽包壓力略低于管網(wǎng)壓力，一般中壓鍋爐低0.1～0.2Mpa，高壓鍋爐一般低0.2～0.3Mpa。