單項(xiàng)選擇題膠片經(jīng)曝光后產(chǎn)生的潛影()。
A.能夠直接被肉眼觀察到
B.在紅燈下能夠被肉眼觀察到
C.需要經(jīng)過(guò)電信號(hào)轉(zhuǎn)化成圖象
D.以上都不是
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1.單項(xiàng)選擇題在中子照相中需要使用轉(zhuǎn)換屏,它在接受中子照射后能放出()輻射而使X射線膠片感光。
A.α
B.β
C.γ
D.A、B和C
2.單項(xiàng)選擇題采用中子照相法時(shí),其曝光需要先經(jīng)過(guò)轉(zhuǎn)換屏轉(zhuǎn)換,然后()。
A.直接在熒光屏顯示缺陷圖象
B.利用熒光增感屏+X射線膠片曝光
C.再使用X射線膠片曝光
D.以上都不對(duì)
3.單項(xiàng)選擇題在切裝膠片時(shí),膠片與膠片、膠片與某些物體發(fā)生摩擦而產(chǎn)生靜電使膠片感光,在射線照片上形成偽缺陷之一的靜電斑紋,其基本形態(tài)是()。
A.點(diǎn)狀斑紋
B.冠狀斑紋
C.樹(shù)枝狀斑紋
D.A、B和C
4.單項(xiàng)選擇題采用4.5㎜×4.5mm方形有效焦點(diǎn)的X光機(jī)透照厚度100mm的工件,當(dāng)焦距為1000mm時(shí),其“幾何不清晰度”為()。
A、0.25mm
B、0.5mm
C、0.75mm
D、1mm
5.單項(xiàng)選擇題()曲線是給定X射線機(jī)在選定工藝條件下制作的。
A.曝光
B.膠片特性
C.非增感型
D.增感型
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對(duì)滲透探傷無(wú)影響的是()。
題型:多項(xiàng)選擇題
冷裂紋常見(jiàn)的有()。
題型:多項(xiàng)選擇題
單晶體金屬特點(diǎn)有()。
題型:多項(xiàng)選擇題
磁場(chǎng)信號(hào)測(cè)量中可采用()方法。
題型:多項(xiàng)選擇題
對(duì)漏磁檢測(cè)原理描述正確的有()。
題型:多項(xiàng)選擇題
探頭主聲束()將會(huì)影響對(duì)缺陷的定位和判別。
題型:多項(xiàng)選擇題
用雙晶探頭檢測(cè)時(shí),為增加缺陷顯現(xiàn)次數(shù)和反射幅度,檢測(cè)細(xì)長(zhǎng)缺陷應(yīng)使探頭()。
題型:多項(xiàng)選擇題
潤(rùn)濕是受檢表面附著的氣體被滲透液體所取代的現(xiàn)象,發(fā)生潤(rùn)濕時(shí)()。
題型:多項(xiàng)選擇題
無(wú)損檢測(cè)設(shè)備、材料采購(gòu)驗(yàn)收內(nèi)容包括()驗(yàn)收。
題型:多項(xiàng)選擇題
阻止?jié)B透液滲入及滲出表面開(kāi)口缺陷的固體污染物有()。
題型:多項(xiàng)選擇題