填空題裝置用N2純度為()露點(diǎn)為()。

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1.單項(xiàng)選擇題單烯烴的分子通式為()。

A.CnHn
B.CnH2n
C.CnH2n+2
D.CnH2n-2

2.單項(xiàng)選擇題流經(jīng)孔板的流體流速越大,孔板前后的壓差()。

A、越大
B、越小
C、不變
D、視流動類型而定

3.單項(xiàng)選擇題裂解氣壓縮機(jī)系統(tǒng)開車前,系統(tǒng)氮?dú)庵脫Q合格的標(biāo)準(zhǔn)是()。

A.氮?dú)猓?0%氧氣<1%
B.氮?dú)猓?0%氧氣<0.5%
C.氮?dú)猓?5%氧氣<1%
D.氮?dú)?gt;98%氧氣<0.2%

4.單項(xiàng)選擇題下列選項(xiàng)中,屬于Ⅱ類防爆電氣設(shè)備是()。

A.工廠用電氣設(shè)備
B.煤礦井下用電氣設(shè)備
C.工廠及煤礦井下用電氣設(shè)備
D.民用電氣設(shè)備