刻線是以圓心為中心的輻射狀光柵，刻線數(shù)通常為360倍數(shù)，相鄰兩刻線之間的夾角稱為柵角r

由于各種原因系統(tǒng)記錄或傳播的總不可能是理想的單頻信息，而是由一定線寬的準單頻信息。

如果在相干光學濾波系統(tǒng)中，從頻譜平面對系統(tǒng)傳遞函數(shù)作適當補償，將在輸出平面上得到清晰像。

利用相位濾波器將物體的相位變化轉換成可以觀察到的光的強弱變化。

用大規(guī)模的集成電路的光刻技術加工而成的二元化器件。

傅里葉分析的手段討論空間濾波過程，以便更透徹地了解改變系統(tǒng)透射頻譜對像結構的影響。

圖形曝光和圖形蝕刻。

只改變空間頻率的相位，不改變它的振幅。

通過對掩膜片基上的感光膠片進行有控制的曝光和顯影獲得