最新試題
IC集成度和性能得以不斷提高的理論基礎(chǔ)是()。
題型:多項選擇題
進行溝槽填充常用的金屬材料是()。
題型:單項選擇題
CE定律發(fā)展面臨的問題包括()。
題型:多項選擇題
化學(xué)機械拋光液的主要成分不包括的是哪個?()
題型:單項選擇題
硅暴露在空氣中,在室溫下即可產(chǎn)生二氧化硅層,厚度約為()。
題型:單項選擇題
金屬化中可選用的金屬材料有()。
題型:多項選擇題
當(dāng)許多損傷區(qū)連在一起時就會形成連續(xù)的非晶層,開始形成連續(xù)非晶層的注入劑量稱為()。
題型:單項選擇題
光刻工藝對準(zhǔn)誤差包括()。
題型:多項選擇題
刻蝕過程中聚合物形成的來源有()。
題型:多項選擇題
下面哪道工序主要是針對晶圓切割之后在顯微鏡下進行晶圓r的外觀檢查,是否有出現(xiàn)廢品?()
題型:單項選擇題