填空題刻蝕是用()或()有選擇地從硅片表面去除不需要材料的工藝過程,其基本目標(biāo)是()。
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試用電導(dǎo)率為102/(Ω·cm),厚1μm的材料設(shè)計1kΩ的電阻,設(shè)電阻寬1μm,求其長。
題型:問答題
什么是無源電阻?什么是有源電阻?舉例說明。
題型:問答題
從天然硅中獲得達(dá)到生產(chǎn)半導(dǎo)體器件所需純度的SGS要經(jīng)過()等步驟。
題型:多項選擇題
20世紀(jì)上半葉對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)量展做出貢獻(xiàn)的4種不同產(chǎn)業(yè)主要是()。
題型:多項選擇題
編寫DRC版圖驗證文件的主要依據(jù)是什么?
題型:問答題
MOS器件按比例縮小后對器件特性有什么影響?
題型:問答題
由于襯底材料的緣故會自動產(chǎn)生電容,這種電容稱為()。
題型:單項選擇題
根據(jù)圖,給出M2管的漏極電流表達(dá)式。
題型:問答題
BiCMOS技術(shù)就是將()和()的優(yōu)良性能集中在同一塊集成電路器件中。BiCMOS綜告了CMOS結(jié)構(gòu)的低功耗、高集成度和TTL或ECL器件結(jié)構(gòu)的高電流驅(qū)動能力。
題型:多項選擇題
在晶體材料中,對于長程有序的原子模式最基本的實體就是()。
題型:單項選擇題