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雜質(zhì)在硅晶體中的擴散機制主要有兩種,分別是()擴散和()擴散。雜質(zhì)只有在成為硅晶格結(jié)構(gòu)的一部分,即(),才有助于形成半導體硅。
答案:
間隙式擴散機制;替代式擴散機制;激活雜質(zhì)后
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擴散是物質(zhì)的一個基本性質(zhì),分為三種形態(tài)()擴散、()擴散和()擴散。
答案:
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刻蝕剖面指的是(),有兩種基本的刻蝕剖面()刻蝕剖面和()刻蝕剖面。
答案:
被刻蝕圖形的側(cè)壁形狀;各向同性;各向異性
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