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硅上的自然氧化層并不是一種必需的氧化材料,在隨后的工藝中要清洗去除。
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二氧化硅是一種介質(zhì)材料,不導(dǎo)電。
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暴露在高溫的氧氣氛圍中,硅片上能生長(zhǎng)出氧化硅。生長(zhǎng)一詞表示這個(gè)過程實(shí)際是消耗了硅片上的硅材料。
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