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在CMP設(shè)備中被廣泛采用的終點檢測方法是光學干涉終點檢測。
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電機電流終點檢測不適合用作層間介質(zhì)的化學機械平坦化。
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反刻是一種傳統(tǒng)的平坦化技術(shù),它能夠?qū)崿F(xiàn)全局平坦化。
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