從天然硅中獲得達(dá)到生產(chǎn)半導(dǎo)體器件所需純度的SGS要經(jīng)過（）等步驟。

版圖設(shè)計(jì)的基本前提是什么？

在圖中，若所有的晶體管都工作在飽和區(qū)，畫出Vx從一個(gè)大的正值下降時(shí)Ix的草圖。

MOS器件按比例縮小后對(duì)器件特性有什么影響？

根據(jù)圖，給出M2管的漏極電流表達(dá)式。

目前集成電路版圖設(shè)計(jì)的主流工具有哪些？

材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類（）。

在晶體材料中，對(duì)于長(zhǎng)程有序的原子模式最基本的實(shí)體就是（）。

試用電導(dǎo)率為102/（Ω·cm），厚1μm的材料設(shè)計(jì)1kΩ的電阻，設(shè)電阻寬1μm，求其長(zhǎng)。

硅半導(dǎo)體工藝中的絕緣材料主要來(lái)源于硅自身產(chǎn)生的（）材料等。