在光線作用下，能使物體產(chǎn)生一定方向的電動勢的現(xiàn)象稱（）

可用作硅片的研磨材料是（）

下列哪一個遷移率的測量方法適合于低阻材料少子遷移率測量（）

對于大注入下的直接復(fù)合，非平衡載流子的壽命不再是個常數(shù)，它與（）。

影響單晶內(nèi)雜質(zhì)數(shù)量及分布的主要因素是（）①原材料中雜質(zhì)的種類和含量；②雜質(zhì)的分凝效應(yīng)；③雜質(zhì)的蒸發(fā)效應(yīng)；④生長過程中坩堝或系統(tǒng)內(nèi)雜質(zhì)的沾污；⑤加入雜質(zhì)量；

表面態(tài)中性能級位于費米能級以上時，該表面態(tài)為（）；

載流子的擴散運動產(chǎn)生擴散電流，漂移運動產(chǎn)生（）電流。

下列選項中，對從石英到單晶硅的工藝流程是（）

用能量（）禁帶寬度的光子照射p-n結(jié)會產(chǎn)生光生伏特效應(yīng)。

直拉法生長單晶硅拉晶過程有幾個主要階段？（）