用根軌跡法設計系統(tǒng)的校正裝置，首先由給定的（）確定主導極點的位置：然后通過設置校正裝置的（）使根軌跡通過主導極點的預期位置；最后，計算預期位置處的根軌跡增益從而得到校正裝置（），通過增加（）滿足系統(tǒng)的靜態(tài)精度要求。

對于典型二階系統(tǒng)，當系統(tǒng)為欠阻尼時，其階躍響應呈現（）。

在負反饋系統(tǒng)中，若開環(huán)傳遞函數增加了一個位于s左半平面的極點，則其根軌跡（）。

關于動態(tài)系統(tǒng)，下列說法錯誤的是：（）

系統(tǒng)局部反饋通路中接入的校正裝置稱為（）校正裝置。

采樣控制系統(tǒng)在采樣間隔期間，對作用于系統(tǒng)的擾動沒有補償作用。（）

系統(tǒng)中引入相位超前校正裝置后，系統(tǒng)的（）。

滯后校正的轉折頻率選得距截止頻率越遠，滯后校正裝置本身在處造成的相角滯后就（）。然而，距越遠，容易造成“（）”現象。

前饋校正一般不單獨使用，總是和其他校正方式結合起來構成（）控制系統(tǒng)，以滿足某些性能要求較高的系統(tǒng)的需要。

二次振蕩環(huán)節(jié)中包含（）個獨立儲能元件。