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懸浮區(qū)熔法檢驗多晶硅中基磷含量時,采用快速區(qū)熔法的工藝時,第一次區(qū)熔時,第一區(qū)熔區(qū)停留揮發(fā)時間()左右。
A.3min
B.5min
C.7min
D.10min
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單項選擇題
光圖定向法結(jié)果直觀,操作(),誤差()。
A.簡單較大
B.復(fù)雜較大
C.簡單較小
D.復(fù)雜較小
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單項選擇題
()是影響硅器件成品率的一個重要因素,也是影響器件性能的穩(wěn)定性和可靠性的重要因素。
A.點缺陷
B.線缺陷
C.面缺陷
D.微缺陷
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