A.發(fā)現(xiàn)檢測(cè)過(guò)程中操作方法有誤
B.經(jīng)返修后的部位
C.供需雙方有爭(zhēng)議或認(rèn)為有其它需要時(shí)
D.以上都應(yīng)復(fù)驗(yàn)
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A.對(duì)工件無(wú)腐蝕，具有較高的揮發(fā)性
B.對(duì)工件表面潤(rùn)濕作用強(qiáng)
C.對(duì)滲透液具有一定的溶解度
D.以上都不對(duì)
A.溶水性試驗(yàn)
B.含水量試驗(yàn)
C.水洗性試驗(yàn)
D.粘度測(cè)定
A.液體溶解度
B.液體進(jìn)入裂紋
C.液體的閃點(diǎn)
D.液體的化學(xué)穩(wěn)定性
A.促進(jìn)滲透劑的滲透作用
B.利于干燥表面便于觀察
C.吸出缺陷中的滲透劑并提供背景反差
D.吸收剩余乳化劑
A.疲勞裂紋的檢驗(yàn)
B.現(xiàn)場(chǎng)焊接件的焊縫檢驗(yàn)
C.應(yīng)力裂紋的檢驗(yàn)
D.晶間裂紋的檢驗(yàn)
最新試題
什么叫做試驗(yàn)線圈的視在阻抗？它在渦流檢測(cè)中有何作用？
什么是實(shí)際焦點(diǎn)和有效焦點(diǎn)？x射線機(jī)說(shuō)明書(shū)給出的是哪個(gè)焦點(diǎn)？焦點(diǎn)尺寸如何計(jì)算？
阻抗圖中，實(shí)線曲線是什么值不同的曲線（）。
有一個(gè)變量對(duì)渦流和磁場(chǎng)狀態(tài)的變化發(fā)生影響，線圈的輸出信號(hào)實(shí)際上是由這個(gè)變量產(chǎn)生的。這個(gè)變量是（）。
有一臺(tái)×光機(jī)，在×光機(jī)背面距焦點(diǎn)1米處的射線照射率為8.35mR/h，以每天工作8小時(shí)計(jì)，在不超過(guò)每天16.7毫雷姆時(shí)，放射人員的安全距離是多少？
新置的Ir192γ射線源，其活度為40Ci，現(xiàn)今時(shí)隔300天，已知，Ir192γ射線源的半衰期為75天。求該源現(xiàn)在的活度？該源新置時(shí)，對(duì)某工件進(jìn)行射線照相的曝光時(shí)間為4min，若所有條件不變，現(xiàn)今應(yīng)曝光多少分鐘？
造成相同的x射線機(jī)曝光曲線不完全相同的原因是什么？
渦流的相似定律是什么？在渦流檢測(cè)中有何作用？
頻率比在什么條件下，表面下裂紋的信號(hào)振幅增大（）。
對(duì)觀片燈有哪些基本要求？