A.應(yīng)與天然牙軸面的倒凹區(qū)輕輕接觸
B.上頜遠(yuǎn)中游離者應(yīng)伸至翼下頜切跡,遠(yuǎn)中頰角應(yīng)覆蓋上頜結(jié)節(jié)
C.下頜遠(yuǎn)中游離者應(yīng)覆蓋磨牙后墊1/3~1/2
D.缺牙區(qū)若骨質(zhì)缺損應(yīng)當(dāng)擴(kuò)大,若有骨突應(yīng)適當(dāng)縮小或作緩沖
E.缺牙多應(yīng)適當(dāng)大些,反之應(yīng)小些
您可能感興趣的試卷
- 2016年口腔醫(yī)學(xué)技術(shù)士相關(guān)專業(yè)知識(shí)考前沖刺(一)
- 2016年口腔醫(yī)學(xué)技術(shù)士相關(guān)專業(yè)知識(shí)考前沖刺(二)
- 2016年口腔醫(yī)學(xué)技術(shù)士相關(guān)專業(yè)知識(shí)考前沖刺(三)
- 2016年口腔醫(yī)學(xué)技術(shù)士相關(guān)專業(yè)知識(shí)考前沖刺(四)
- 2016年口腔醫(yī)學(xué)技術(shù)士相關(guān)專業(yè)知識(shí)考前沖刺(五)
- 口腔醫(yī)學(xué)技術(shù)(士)相關(guān)專業(yè)知識(shí)提分試卷一
- 口腔醫(yī)學(xué)技術(shù)(士)相關(guān)專業(yè)知識(shí)提分試卷二
你可能感興趣的試題
A.2.5mm
B.2mm
C.1.5mm
D.1mm
E.0.5mm
A.1/2
B.1/3
C.1/4
D.2/3
E.3/4
A.近缺隙側(cè)大,遠(yuǎn)缺隙側(cè)小
B.近缺隙側(cè)小,遠(yuǎn)缺隙側(cè)大
C.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)都小
D.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)都大
E.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)相等
A.放置附著體的基牙冠修復(fù)后,為增加附著體的強(qiáng)度可增寬牙冠的頰舌徑
B.冠內(nèi)附著體與其他固位體可聯(lián)合使用
C.栓道的底部即起到常規(guī)義齒中牙合支托窩的作用
D.如義齒需采用兩個(gè)或兩個(gè)以上冠內(nèi)附著體,必須使各冠內(nèi)附著體栓道軸壁間有共同就位道
E.冠內(nèi)附著體可用于修復(fù)游離端牙列缺損的患者
A.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽(yáng)性結(jié)構(gòu)接觸面積與固位力成正比
B.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽(yáng)性結(jié)構(gòu)接觸密合程度與固位力成正比
C.義齒的穩(wěn)定性決定于栓體與栓道側(cè)壁間的密合程度
D.自制附著體陰性結(jié)構(gòu)即栓道的軸壁形態(tài)對(duì)固位力有影響
E.精密附著體在義齒制作過(guò)程中,附著體預(yù)成品,通過(guò)包埋、鑄造、研磨等工序,會(huì)影響附著體陰型結(jié)構(gòu)和陽(yáng)型結(jié)構(gòu)的密合度,影響附著體固位
最新試題
先制取初印模后,在初印模上均勻去出一層印模材料,然后再制取終印模是()。
在全口義齒排牙中,需接觸平面的是()。
選擇無(wú)牙頜托盤(pán)的錯(cuò)誤方法是()。
下頜牙槽嵴吸收的方向是()。
取戴義齒時(shí)痛,應(yīng)()。
磁性附著體戴用后的注意事項(xiàng),不包括()。
附著體義齒相對(duì)于傳統(tǒng)卡環(huán)固位義齒來(lái)說(shuō),其特點(diǎn)不包括()。
下列關(guān)于全口義齒磨光面的敘述,錯(cuò)誤的是()。
全口義齒基托需要緩沖的地方是()。
3/4冠修復(fù)時(shí),主要應(yīng)用的固位形式是()。