A.下頜后牙游離缺失,如果末端基牙向后傾斜,模型應(yīng)向后傾斜,增加末端基牙遠(yuǎn)中倒凹
B.后牙非游離缺失,應(yīng)根據(jù)基牙的健康程度來(lái)決定模型向前或向后傾斜
C.一側(cè)缺牙多,另一側(cè)缺牙少,應(yīng)將模型向牙齒多側(cè)傾斜,從缺牙多側(cè)向缺牙少側(cè)戴入
D.前后牙均有缺失,前牙倒凹較大時(shí),將模型向后傾斜,就位道由前向后,使前牙倒凹減小
E.調(diào)節(jié)倒凹法設(shè)計(jì)的就位道,適用于基牙牙冠短,基牙長(zhǎng)軸彼此近似平行者
您可能感興趣的試卷
- 口腔醫(yī)學(xué)技術(shù)(士)專(zhuān)業(yè)實(shí)踐能力提分試卷一
- 口腔醫(yī)學(xué)技術(shù)(士)專(zhuān)業(yè)實(shí)踐能力提分試卷二
- 口腔醫(yī)學(xué)技術(shù)(士)專(zhuān)業(yè)實(shí)踐能力提分密卷一
- 口腔醫(yī)學(xué)技術(shù)(士)專(zhuān)業(yè)實(shí)踐能力提分密卷二
- 口腔醫(yī)學(xué)技術(shù)(士)專(zhuān)業(yè)實(shí)踐能力提分密卷三
- 口腔醫(yī)學(xué)技術(shù)(士)專(zhuān)業(yè)實(shí)踐能力提分密卷四
- 2016年口腔醫(yī)學(xué)技術(shù)士專(zhuān)業(yè)實(shí)踐能力考前沖刺(二)
你可能感興趣的試題
A.功能運(yùn)動(dòng)時(shí)要使鄰面板與基牙保持接觸,增大摩擦力
B.位于遠(yuǎn)中的鄰面板向上不能越過(guò)外形高點(diǎn)線(xiàn)
C.RPI組合卡環(huán)不能在近中傾斜的基牙上使用
D.牙體導(dǎo)平面預(yù)備時(shí),可以保留小的齦區(qū)倒凹
E.導(dǎo)平面板可以連接穩(wěn)定牙弓,有助于使孤立牙達(dá)到穩(wěn)定
A.圈形卡環(huán)
B.雙臂卡環(huán)
C.回力卡環(huán)
D.對(duì)半卡環(huán)
E.倒鉤卡環(huán)
A.骨突起的位置和嚴(yán)重程度
B.覆蓋骨突起區(qū)軟組織的性質(zhì)
C.義齒由基牙提供支持的程度及剩余牙槽嵴提供的支持特性
D.大連接體的設(shè)計(jì)
E.固位體的設(shè)計(jì)
A.位于鑄圈上部的2/5處
B.位于鑄圈下部的2/5處
C.位于鑄圈上部的1/5處
D.位于鑄圈下部的1/5處
E.位于鑄圈中部
A.冷卻過(guò)程中的收縮
B.復(fù)制模型材料的影響
C.熔模在鑄型中位置的影響
D.鑄件的冷卻方法
E.以上均是
最新試題
進(jìn)行金屬烤瓷冠修復(fù),為了美觀,舌側(cè)應(yīng)選用()。
在不透明層出現(xiàn)氣泡,正確的處理方法是()。
上頜后堤區(qū)最寬的部分是()。
不會(huì)影響瓷層透明度的操作是()。
關(guān)于可摘局部義齒雕刻上頜第一前磨牙頰面形態(tài)的敘述,錯(cuò)誤的是()。
制作底冠蠟型的要點(diǎn)中,錯(cuò)誤的是()。
上頜后堤區(qū)最窄的部分是()。
全冠熔模要求建立正常的軸面突度,與其目的無(wú)關(guān)的是()。
固定橋粘固后當(dāng)日出現(xiàn)過(guò)敏性疼痛,該癥狀可能的原因不包括()。
機(jī)器調(diào)拌石膏時(shí),在真空狀態(tài)下的攪拌時(shí)間應(yīng)為()。