A.功能印模
B.解剖式印模
C.加壓印模
D.減壓印模
E.均勻性印模
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你可能感興趣的試題
A.正中有早接觸
B.基托組織面有倒凹
C.基托組織面有瘤子
D.取印模時(shí)有托盤壓痕
E.牙槽嵴上有骨突
A.頸部向遠(yuǎn)中傾斜
B.牙頸部向后側(cè)突出
C.牙尖略向舌側(cè)傾斜
D.牙尖在平面上
E.遠(yuǎn)中唇面向舌側(cè)扭轉(zhuǎn)
下列哪項(xiàng)不是與前伸平衡有關(guān)的因素()
A.髁導(dǎo)斜度
B.切導(dǎo)斜度
C.牙尖斜度
D.矢狀曲線曲度
E.定位平面斜度
A.下頜隆突區(qū)
B.頜頰側(cè)翼緣區(qū)
C.下頜舌側(cè)翼緣區(qū)
D.唇側(cè)邊緣
E.舌系帶
A.伸展到離唇、頰、舌溝底約0.5cm
B.以不妨礙周邊軟組織活動(dòng)為準(zhǔn),盡可能地伸展
C.包括整個(gè)邊緣區(qū)
D.應(yīng)伸展到一切非硬性倒凹區(qū)
E.應(yīng)伸展到唇、頰、舌溝的底部
最新試題
必須部分放入基牙倒凹內(nèi)的部分是()
牙體缺損修復(fù)時(shí),如原有根尖周病未徹底治療,修復(fù)后會(huì)出現(xiàn)()
牙震蕩有輕微叩痛和松動(dòng),必要時(shí)可采用()
長期配戴全口義齒的患者容易患的口腔念珠菌病類型主要是()
單側(cè)下第二乳磨牙缺失,第一恒磨牙未萌采用哪種間隙保持器()
雙側(cè)上頜乳磨牙缺失采用哪種間隙保持器()
可摘局部義齒主要起支持作用的是()
大量使用廣譜抗生素的情況下容易發(fā)生的是()
全口義齒基托邊緣與唇頰溝、舌溝、上頜后堤區(qū)及下頜磨牙后墊處相接觸的區(qū)域?qū)儆冢ǎ?/p>
屬于TMD致病因素里咬合因素的是()