問(wèn)答題簡(jiǎn)述離子注入設(shè)備的五個(gè)主要子系統(tǒng)
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多層陶瓷基板多層化的方法包括（）。
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下面哪個(gè)選項(xiàng)不是集成電路工藝用化學(xué)氣體質(zhì)量的指標(biāo)？（）
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新的平坦化方法有哪幾個(gè)？（）
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金屬化中可選用的金屬材料有（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
CE定律發(fā)展面臨的問(wèn)題包括（）。
題型：多項(xiàng)選擇題
注入損傷與注入離子的以下哪個(gè)參數(shù)無(wú)關(guān)？（）
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
IC集成度和性能得以不斷提高的理論基礎(chǔ)是（）。
題型：多項(xiàng)選擇題