A.輕輕拉上唇向下內(nèi)數(shù)次
B.輕輕拉下唇向上內(nèi)數(shù)次
C.輕輕拉上頰部向前下內(nèi)、下頰部向前上內(nèi)數(shù)次
D.囑患者相繼作發(fā)"哦"、"嘿"等音的姿勢(shì)
E.患者伸舌向前并左右擺動(dòng)
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.均應(yīng)制成斜凸形斜面
B.上頜頰面應(yīng)向上外的斜面
C.上頜舌面應(yīng)向上內(nèi)的斜面
D.下頜頰面應(yīng)向下外的斜面
E.下頜舌面應(yīng)向下內(nèi)的斜面
A.卡環(huán)設(shè)置過多
B.卡環(huán)過緊
C.支持不夠或支托沒有起到應(yīng)有的支持作用
D.骨突區(qū)緩沖不夠
E.基托邊緣伸展過長(zhǎng)
A.基托進(jìn)入倒凹區(qū)
B.組織面不光滑
C.卡環(huán)過緊
D.支托位置不當(dāng)
E.義齒變形
A.斜線式
B.直線式
C.橫線式
D.縱線式
E.平面式
A.缺牙數(shù)目少
B.義齒采用雙側(cè)設(shè)計(jì)
C.缺牙的兩側(cè)都有基牙
D.為黏膜支持式義齒
E.為混合支持式義齒
最新試題
如果用RPA卡環(huán)組代替RPI卡環(huán)組,則圓環(huán)形卡環(huán)臂的堅(jiān)硬部分應(yīng)位于基牙的()。
取本例患者下頜模型時(shí)應(yīng)采用何種印模方法()。
基牙預(yù)備時(shí)應(yīng)制備出()。
全冠口內(nèi)試戴,就位后發(fā)現(xiàn)探針可探入冠與牙體組織間隙,檢查模型見間隙涂料蓋過頰側(cè)肩臺(tái),正確的處理方法是()。
其疼痛原因最可能是()。
患牙首選治療方案是()。
正確的處理方法是()。
工作側(cè)出現(xiàn)早接觸,應(yīng)選磨()。
下頜牙槽嵴黏膜壓痛的最可能原因是()。
解決方案為()。