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【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述濕法腐蝕相比干法刻蝕的優(yōu)點(diǎn)
答案:
(1)對(duì)材料具有高的選擇比
(2)不會(huì)對(duì)器件帶來(lái)等離子體損傷
(3)設(shè)備簡(jiǎn)單
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介質(zhì)——氧化物和氮化硅
硅——多晶硅柵和單晶硅槽
金...
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【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述負(fù)載和微負(fù)載效應(yīng)的概念
答案:
負(fù)載效應(yīng):要刻蝕硅片表面的大面積區(qū)域,則會(huì)耗盡刻蝕劑濃度使刻蝕速率慢下來(lái);如果刻蝕的面積比較小,則刻蝕會(huì)快些
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