A、呋喃 B、吡喃 C、吡嗪 D、噻唑
A、高溫曲 B、中溫曲 C、低溫曲 D、小曲 E、根霉曲
A、高溫堆積 B、混蒸混燒 C、清蒸清燒 D、石窖泥底為發(fā)酵設備 E、半固態(tài)發(fā)酵