射線經(jīng)過一個(gè)半價(jià)層后，其（）衰減一半。

底片干燥時(shí)，一般不得超過60℃，是因?yàn)椋ǎ?/p>

鐵磁材料達(dá)到居里點(diǎn)時(shí)，會(huì)發(fā)生什么現(xiàn)象（）

采用X射線機(jī)對(duì)某一工件探傷時(shí)，焦距為1m，曝光時(shí)間為6min，其余條件均不變，曝光時(shí)間改為3min時(shí)透照焦距應(yīng)改為（）

關(guān)于圓晶片輻射的超聲波，下列說法正確的是（）（S為傳播距離，N為近場(chǎng)長(zhǎng)度）。

化學(xué)清洗用于去除工件表面的（）

散射比的大小與（）因素有關(guān)。

直射法探傷時(shí)試件的探測(cè)面應(yīng)選在與缺陷最大表面（）

關(guān)于聲壓往復(fù)透射率，以下敘述正確的是（）

在近場(chǎng)以外的部分，即聲程大于3N的遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū)聲壓與距離的關(guān)系為（）