單項(xiàng)選擇題

對(duì)原子發(fā)射光譜法比對(duì)原子熒光光譜法影響更嚴(yán)重的因素是（）。

A.粒子的濃度
B.雜散光
C.化學(xué)干擾
D.光譜線干擾

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單項(xiàng)選擇題

當(dāng)濃度較高時(shí)進(jìn)行原子發(fā)射光譜分析，其工作曲線（lgI~lgc）形狀為（）。

A.直線下部向上彎曲
B.直線上部向下彎曲
C.直線下部向下彎曲
D.直線上部向上彎曲

單項(xiàng)選擇題

發(fā)射光譜定量分析中產(chǎn)生較大背景而又未扣除分析線上的背景，會(huì)使工作曲線的下部（）。

A.向上彎曲
B.向下彎曲
C.變成折線
D.變成波浪線