A.調(diào)節(jié)池出水COD為1410mg/L
B.水解池出水COD為1128mg/L
C.曝氣池出水COD為147mg/L
D.COD總?cè)コ蕿?5%
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A.4和25%
B.3和25%
C.4和75%
D.3和75%
A.氧化溝基本構(gòu)成包括:氧化溝池體、曝氣設(shè)備、進(jìn)出水裝置、導(dǎo)流和混流裝置
B.采用氧化溝工藝處理城市污水時(shí),必須設(shè)置初次沉淀池
C.三溝式氧化溝無需設(shè)置專門二次沉淀池和污泥回流裝置
D.三溝式氧化溝將曝氣、沉淀工序集于一體,并具有按時(shí)間順序交替輪換運(yùn)行的特點(diǎn),其運(yùn)轉(zhuǎn)周期可根據(jù)處理水質(zhì)的不同進(jìn)行調(diào)整
A.應(yīng)該根據(jù)廢水中污染物特性進(jìn)行工藝設(shè)計(jì)
B.應(yīng)根據(jù)污水深度處理后出水的不同用途,選擇不同工藝單元
C.在選擇污水深度處理工藝時(shí),還應(yīng)該考慮積極性的原則
D.污水深度處理各個(gè)單元工藝可相互獨(dú)立,不必考慮單元處理工藝之間的兼容性
A.調(diào)節(jié)→厭氧→好氧→排放
B.調(diào)節(jié)→水解酸化→好氧→混凝沉淀→排放
C.調(diào)節(jié)→化學(xué)投藥→水解酸化→好氧→排放
D.調(diào)節(jié)→厭氧→水解酸化→好氧→混凝沉淀→排放
A.0.186mgO2/(g揮發(fā)物質(zhì)·h)
B.0.280mgO2/(g揮發(fā)物質(zhì)·h)
C.0.147mgO2/(g揮發(fā)物質(zhì)·h)
D.0.256mgO2/(g揮發(fā)物質(zhì)·h)
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