繪制圖示爐溫控制示意圖的控制方框圖。
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對于最小相位系統(tǒng)G(s)H(s),當(dāng)s沿奈氏路徑從-j0變化到+j0時,若G(s)H(s)的奈氏曲線以半徑為無窮大順時針轉(zhuǎn)過π弧度,則該系統(tǒng)的類型為()。
關(guān)于動態(tài)系統(tǒng),下列說法錯誤的是:()
相位超前-滯后校正網(wǎng)絡(luò)在()頻段是一個滯后校正環(huán)節(jié)。
滯后校正的轉(zhuǎn)折頻率選得距截止頻率越遠(yuǎn),滯后校正裝置本身在處造成的相角滯后就()。然而,距越遠(yuǎn),容易造成“()”現(xiàn)象。
二次振蕩環(huán)節(jié)中包含()個獨立儲能元件。
在原點附近增加一對開環(huán)偶極子,根軌跡的走向和特征根的位置(),所以基本上不改變系統(tǒng)的()特性,其作用主要是改變系統(tǒng)的(),提高系統(tǒng)的靜態(tài)精度。
系統(tǒng)的相角裕量越大,超調(diào)越();截至頻率越高,快速性越(),抗高頻干擾的能力越()。
關(guān)于結(jié)構(gòu)圖的化簡,說法錯誤的是()
用根軌跡法進(jìn)行系統(tǒng)校正,是將高階系統(tǒng)看作次阻尼二階系統(tǒng)進(jìn)行設(shè)計,所以,在校正裝置設(shè)計之后,需要進(jìn)行(),看被忽略掉的系統(tǒng)極點對系統(tǒng)動態(tài)性能的影響。正因為降階處理的粗略性,設(shè)計初確定主導(dǎo)極點位置時需要留出()。
用根軌跡法設(shè)計系統(tǒng)的校正裝置,首先由給定的()確定主導(dǎo)極點的位置:然后通過設(shè)置校正裝置的()使根軌跡通過主導(dǎo)極點的預(yù)期位置;最后,計算預(yù)期位置處的根軌跡增益從而得到校正裝置(),通過增加()滿足系統(tǒng)的靜態(tài)精度要求。