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【計算題】硅P-N結的N區(qū)施主濃度為1×10
15
cm
-3
,τ
h
=1μs;P區(qū)受主濃度為6×10
17
cm
-3
,τ
e
=5μs;D
h
=1.3×10
-3
m
2
/s,D
e
=3.5×10
-3
m
2
/s,試計算室溫下空穴電流與電子電流之比j
h
/j
e
,飽和電流密度j
0
以及在正向偏壓0.3V時,流過P-N結的電流密度j。
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【計算題】已知施主濃度為1×10
18
cm
-3
,受主濃度為5×10
16
cm
-3
,試分別求出鍺、硅材料在室溫下的接觸電勢差。
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問答題
【計算題】設空穴的濃度呈線性分布,在3μm內濃度差為1×10
15
cm
-3
,遷移率為400cm
2
/(V·s),試計算室溫下的空穴擴散電流密度j
h
。
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